Laboratorium technologiczne prowadzi badania oraz usługowe w zakresie wytwarzania:
- Powłok supertwardych – np. TiN, nanokompozyt TiN/a-Si3N4 i powłoki węglikowe, do pokrywania narzędzi skrawających z węglików spiekanych, stali szybkotnących, elementów narażonych na zużycie wynikające z tarcia i zużycia abrazyjnego, a także jako ceramiczne powłoki stabilne chemiczne do zastosowań biomedycznych.
- Twardych warstw węglikowych wytwarzanych metodą pośrednią.
- Powłok niskotarciowych na elementy par ciernych pracujących w wysokoobciążonych węzłach tribologicznych w niskich i wysokich temperaturach i przestrzeni kosmicznej, np. nanokompozyty na bazie amorficznego węgla z dodatkiem metali przejściowych i półmetali, MoS2, MoO3+Ag i inne.
- Powłok żaroodpornych – na bazie superstopów metali i ceramiki do ochrony elementów w atmosferze utleniającej w temperaturze do 1000 OC.
- Barier termicznych – np. na bazie ZrO2, w tym do zastosowań w przestrzeni kosmicznej.
- Odbłyśników promieniowania – np. powłoki z czystych metali na elementy czas anten satelitów stosowanych w przestrzeni kosmicznej, a także odzieży i akcesoriów do zastosowań specjalnych.
- Powłok zabezpieczających przed oddziaływaniem szkodliwego promieniowania UV do zastosowań kosmicznych, np. włókien aramidowych pokrywanych powłokami metalowymi lub ceramicznymi.
- Katalizatorów z wykorzystaniem cienkich powłok np. Pt lub Re.
- Powłok dekoracyjnych.
Nasze zaplecze badawcze to
- stanowisko do osadzania powłok B-90, wyposażone w cztery niezależne magnetrony umożliwiające osadzanie powłok metodami:
- Rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości (MFMS),
- Rozpylania magnetronowego wysokiej częstotliwości (RFMS),
- Rozpylania magnetronowego wymuszane impulsami gazu (GPMS),
- Impulsowego rozpylania magnetronowego dużej mocy HIPIMS.
- stanowisko CVD/PVD do chemicznego i fizycznego osadzania powłok z fazy gazowej, wyposażone w urządzenia do ciągłej analizy parametrów plazmy, wyposażone w cztery magnetrony umożliwiające wytwarzanie powłok metodami:
- Rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości (MFMS) z możliwością pracy w zamkniętym polu magnetycznym (CFMFMS);
- Rozpylania magnetronowego wymuszane impulsami gazu (GPMS)
- Impulsowego rozpylania magnetronowego dużej mocy HIPIMS
- Niskotemperaturowe osadzanie metodą RF PECVD.
- stanowisko do osadzania powłok na elementach małogabarytowych WP11, wyposażone w cztery 1’’ magnetrony z możliwością osadzania powłok następującymi metodami:
- Rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości (MFMS),
- Rozpylania magnetronowego wysokiej częstotliwości (RFMS),
- Rozpylania magnetronowego wymuszane impulsami gazu (GPMS),
- Impulsowego rozpylania magnetronowego dużej mocy HIPIMS.
- piec próżniowy do obróbki cieplnej i cieplno-chemicznej w wysokiej próżni (~10-3 Pa), w tym z wykorzystaniem wyładowania do wzbudzania plazmy średniej częstotliwości np. do umacniania dyfuzyjnego stopów tytanu w plazmie argonowo-tlenowej.
opiekun laboratorium: dr inż. Marcin Makówka
